一台光刻机的重量大约为180吨，售价约为1.15亿美元，运输时需要数架波音747。荷兰阿斯麦的极紫外光刻机被认为是当今最复杂的机械设备。近期，华尔街日报分析了围绕这台机器的三方博弈：中国渴望获得、荷兰希望出售，而美国则进行强力干预，阻止出售。这台光刻机在芯片制造过程中至关重要。如果中国无法获得阿斯麦的极紫外光刻机，国产光刻技术在达到先进制程之前，中国国内的芯片厂将无法独立生产先进芯片。目前，全球高端光刻机市场主要被荷兰阿斯麦、日本尼康和佳能三家公司占据，阿斯麦在极紫外光刻机领域几乎处于垄断地位。

中国对于获取这项技术的迫切性与华为密切相关。在中美科技竞争中，华为的高端芯片供应链遭到切断，导致其5G手机在市场上的地位骤降。尽管华为曾表示拥有丰富的资源，但事实上其高端手机业务逐渐衰退，使其不得不向其他领域转型。

当前，中国的国产光刻机技术仅能稳定生产90纳米芯片，而日本的技术已达14纳米。中国正在调试第一台使用193纳米光源的浸没式光刻机，理论上可以用于28纳米芯片，但这一水平需要大量的美国软件和技术支持。阿斯麦向中国出口的主要设备是DUV光刻机，这一出口不需要美国的同意。

有趣的是，日本媒体持相对积极的态度。《日经亚洲》指出，中国正在加快技术追赶步伐，这令日本和荷兰的企业感到焦虑。报道认为，西方的封锁实际上促使了中国的自主研发，在测量、薄膜沉积和蚀刻等环节，中国已有所突破，当前唯一缺失的环节就是光刻。根据这一观点，中国有可能成为继日本和荷兰之后的第三个光刻机制造国。

对于能否追赶上，国内持不同看法。乐观者认为，28纳米及以下的芯片占全球市场的80%以上，一旦中国的28纳米产业链完善，阿斯麦或许会感到压力。悲观者则认为，光刻机由两万家公司的部件构成，并非单靠资金即可复制。光刻胶被日本公司垄断，高端机床来自瑞士，设计软件掌握在三家美国企业手中，极紫外光源也来自美国，整机依赖云端控制，理论上可以在瞬间停机。中芯国际目前的生产工艺距离先进芯片水平仍有差距，从14纳米甚至7纳米的跃升几乎不现实。

日本媒体提到的时间问题，不意味着短期内能够实现突破。与其纠结未来两年或五年的发展，不如正视现实：芯片战争的成败在于能否在28纳米节点上稳固产业链，而不是急于追求5纳米的技术。对于中国而言，这是一项生死攸关的任务，面对封锁，留给其发展的余地有限，只有通过夯实每一个环节才能克服重重挑战。